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製品情報

当社の製品は、受注生産方式により当社ブランドでの販売を主としています。代表的な各種洗浄装置の一部ご紹介します。

フォトマスクプロセス

ケミカル処理や枚葉スピンプロセッサを駆使しハイエンド品に対応。5インチ標準サイズからG10対応サイズまで。

ウェハプロセス

RCA洗浄をはじめ、片面エッチング装置など対応。化合物半導体の加工から洗浄まで。

FPDプロセス

大型、薄型に対応。バーティカルプロセッサはコンパクト設計。

ハードディスクプロセス

サブストレートからメディアプロセスまで対応。高品位、ハイスループットな洗浄装置からLuberまで。

ドライプロセス

1ウェットプロセスに重要な親水化処理を制御。各種ウェットプロセスとの組み合わせによるハイブリッドプロセス。

ニューテクノロジー

薄い基板、角基板、凹凸のある基板のフォトリソには真空方式が有効。真空式ニュードライヤーが溶剤レス、薄物などへ対応。

その他

温純水ユニット、機能水供給ユニット(炭酸水・オゾン水・水素水)、薬液自動供給ユニット、薬液自動廃液ユニット、ドラフトチャンバー、ロード・アンロードユニットなど

販売実績

お客様のご要望に応じて、各種装置の開発設計製作をお受けしております。